技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及一種等離子電漿拋光設(shè)備構(gòu)及其拋光系統(tǒng)，尤其涉及一種等離子電 漿拋光機(jī)構(gòu)及其拋光系統(tǒng)。
背景技術(shù)現(xiàn)在拋光技術(shù)包括滾筒拋光(機(jī)械化學(xué)拋光)、機(jī)械拋光、化學(xué)拋光、電解拋光和 電漿拋光等拋光技術(shù)，電漿拋光機(jī)就是適用于電漿拋光技術(shù)的設(shè)備，與電漿拋光相比，滾筒拋光(機(jī)械化學(xué)拋光)和機(jī)械拋光花費(fèi)時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，電解拋光和化學(xué)拋光不但污染嚴(yán)重而且 拋光效果差、綜合成本高，而電漿拋光不但拋光效果好、效率高而且無(wú)污染.電漿拋光機(jī)的 拋光原理是利用高壓高電流配合環(huán)保的化學(xué)品在高溫下產(chǎn)生電漿即等離子來(lái)磨擦工件表 面，達(dá)到拋光效果，拋光時(shí)，工件接陽(yáng)極，將帶電的工件浸入裝有帶負(fù)電的高溫電漿溶液中， 所施加的電壓為200-400V不等，工件表面會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定的等離子體層，該等離子體層會(huì)把被 處理表面與電漿質(zhì)水溶液隔開(kāi)，從而導(dǎo)致工件表面與電漿溶液蒸汽之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子化學(xué)反應(yīng)和電化學(xué)反應(yīng)，使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化，同時(shí)又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕， 在氧化速度與侵蝕速度相當(dāng)時(shí)出現(xiàn)拋光效果，使工件表面光澤度上升及反射率提高。
另， 被拋光工件表面被施加足夠高的電壓后，它和氣體層、蒸汽、電漿液之間產(chǎn)生很高的電場(chǎng)強(qiáng) 度，使表面微觀凸起部位被削平，達(dá)到去毛刺和拋光效果，其中拋光速率隨著外加電場(chǎng)的增 加而增加，拋光速度可達(dá)到傳統(tǒng)拋光方法的十倍左右。
　　傳統(tǒng)的電漿拋光機(jī)包括裝有高溫和高電壓的電漿溶液且與陰極相連的電漿槽、與 陽(yáng)極電連接的掛具，拋光時(shí)，所述電漿槽通電，拋光工件掛在所述掛具上并通電，將上述帶 電的工件浸入電漿槽中進(jìn)行電漿拋光，工件拋光完成后(具體時(shí)間根據(jù)實(shí)際情況定)將掛 具拉出所述電漿槽，并將工件從所述掛具上取下來(lái)，整個(gè)電漿拋光過(guò)程完成，由于電漿拋光 的速度很快，需要不斷重復(fù)地將掛有待拋光工件的掛具浸入所述電漿槽并將掛有已拋光好 的工件的掛具拉起，在這個(gè)過(guò)程中，當(dāng)將掛具從所述電漿槽拉起、將已拋光工件從所述掛具 上取下來(lái)并掛上待拋光工件的這一段時(shí)間里，所述電漿槽有將近一半的時(shí)間是處于空閑狀 態(tài)上的，傳統(tǒng)的電漿拋光機(jī)具有成本高、效率低的缺點(diǎn)。因此，急需一種成本低、效率高的電漿拋光裝置。